Ứng dụng cụ thể của máy làm sạch plasma

Máy làm sạch/khắc plasma tạo ra plasma bằng cách đặt hai điện cực vào một hộp kín để tạo ra điện trường. Một máy bơm chân không được sử dụng để duy trì mức độ chân không nhất định. Khi khí ngày càng trở nên loãng hơn, khoảng cách giữa các phân tử và chuyển động tự do của các phân tử hoặc ion cũng tăng lên. Dưới tác dụng của điện trường, các ion này va chạm với nhau và tạo thành plasma. Các ion này có tính phản ứng cao, có đủ năng lượng để phá vỡ hầu hết các liên kết hóa học, gây ra phản ứng hóa học trên bất kỳ bề mặt tiếp xúc nào. Các plasma khí khác nhau có tính chất hóa học khác nhau. Ví dụ, plasma oxy có tính oxy hóa cao, có khả năng oxy hóa chất quang dẫn để tạo ra khí, do đó đạt được hiệu quả làm sạch. Plasma khí ăn mòn có tính dị hướng tuyệt vời, đáp ứng các yêu cầu khắc. Xử lý bằng plasma tạo ra ánh sáng rực rỡ, do đó có tên là phóng điện phát sáng.
Cơ chế làm sạch bằng plasma chủ yếu dựa vào sự “kích hoạt” của các hạt hoạt tính trong plasma để loại bỏ các vết bẩn trên bề mặt. Xét về cơ chế phản ứng, quá trình làm sạch bằng plasma thường bao gồm quá trình sau: khí vô cơ được kích thích chuyển sang trạng thái plasma; chất khí được hấp phụ trên bề mặt rắn; các nhóm bị hấp phụ phản ứng với các phân tử trên bề mặt rắn tạo thành phân tử sản phẩm; các phân tử sản phẩm phân hủy thành pha khí; và dư lượng phản ứng được loại bỏ khỏi bề mặt.

Tính năng quan trọng nhất của công nghệ làm sạch bằng plasma là nó có thể xử lý mọi loại chất nền, bao gồm kim loại, chất bán dẫn, oxit và hầu hết các vật liệu polymer như polypropylen, polyester, polyimide, polyvinyl clorua, epoxy và thậm chí cả polytetrafluoroethylene. Nó có thể làm sạch toàn bộ bề mặt và các khu vực cụ thể cũng như các cấu trúc phức tạp.