Thiết bị plasma LCD RF

Thiết bị LCD RF Plasma là một hệ thống hiệu suất cao-được phát triển để xử lý bề mặt của LCD, OLED và các vật liệu màn hình phẳng khác. Nó được thiết kế để đáp ứng nhu cầu khắt khe của sản xuất hiện đại, trong đó quy trình xử lý ổn định và thông lượng cao đều quan trọng như nhau. Hệ thống tổng thể có kích thước 880mm × 790mm × 1710mm, với kích thước buồng chân không là 450mm × 450mm × 450mm. Mỗi tấm điện cực có kích thước 410mm × 430mm và có thể xử lý đồng thời tối đa năm lớp chất nền trong một chu kỳ.

 

Từ góc độ chức năng, thiết bị này cung cấp HMI-thân thiện với người dùng, cho phép điều chỉnh trực tiếp các thông số quy trình chính như công suất đầu ra RF, thời gian bơm chân không, các phân đoạn xử lý riêng lẻ và tốc độ dòng khí. Các cài đặt này có thể được sửa đổi nhanh chóng để thích ứng với các vật liệu hoặc yêu cầu quy trình khác nhau, mang lại sự linh hoạt và nhất quán cho các hoạt động công nghiệp.

Hệ thống phân phối khí hỗ trợ ba kênh độc lập và có thể xử lý nitơ (N₂), argon (Ar), hydro (H₂) và oxy (O₂). Đồng hồ đo lưu lượng được hiệu chuẩn trong phạm vi 0–200 ml/phút, với độ chính xác kiểm soát duy trì dao động dưới 5%. Tất cả các bộ phận khí nén chính đều do SMC cung cấp và việc bịt kín buồng dựa trên các miếng đệm cao su-fluoro bền bỉ, đảm bảo sự ổn định lâu dài-trong các môi trường đòi hỏi khắt khe. Plasma được tạo ra thông qua nguồn điện RF tự thích ứng hoạt động ở tần số 13,56 MHz, với công suất tối đa là 1 kW, đảm bảo cung cấp năng lượng đáng tin cậy để xử lý thống nhất.

Về mặt cấu trúc, buồng được sản xuất từ-thép không gỉ 304 có độ tinh khiết cao để giảm thiểu quá trình oxy hóa và ăn mòn. Hệ thống sử dụng thiết kế đệm kín kép-để đảm bảo tính toàn vẹn chân không, trong khi giá đỡ điện cực bằng đồng ở phía sau buồng bảo vệ các tấm điện cực ngang thông qua nhiều khóa vít, cải thiện độ ổn định và truyền năng lượng. Các giá đỡ bên bổ sung được gia cố thêm cho các điện cực. Cân bằng chân không đã được tối ưu hóa: van xả nhanh-cho phép cân bằng áp suất trong vòng 5–10 giây, giảm thời gian không tải và tăng năng suất.

Để đảm bảo an toàn vận hành, máy được trang bị hệ thống báo lỗi. Nó ghi lại ngày, giờ và nguyên nhân của bất kỳ sự kiện bất thường nào, đồng thời kích hoạt tự động tắt để bảo vệ cả buồng và phôi.

Về mặt ứng dụng, thiết bị này được áp dụng rộng rãi cho các quy trình nạp đầy chip lật. Làm sạch bằng plasma trước khi lấp đầy giúp tăng cường đáng kể hoạt động bề mặt, cải thiện khả năng thấm ướt và tăng độ bám dính giữa chất nền và chất bao bọc. Do đó, nó không chỉ cải thiện chất lượng đóng gói mà còn nâng cao-độ tin cậy lâu dài của các tổ hợp bán dẫn và màn hình tiên tiến.

Chú phổ biến: thiết bị plasma lcd rf, nhà sản xuất thiết bị plasma lcd rf Trung Quốc, nhà máy